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太阳能面板回收公司首选公司添加时间:2019-11-08
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扩散过程
传播目的
N型磷源层基于入射的硅晶片P型硅晶片扩散以形成PN结。
扩散原理。
POCl3在高温(600°C)下分解,形成五氯化磷(PCl5)和五氧化二磷(P2O5)。反应公式如下。
5POCl3 = 3PCl5 + P2O5
所获得的P 2 O 5在扩散温度下与硅反应形成二氧化硅(SiO 2)和磷原子,其反应式如下。
2P2O5 + 5Si = 5SiO2 + 4PPOCl3
在热解中,如果分解中不涉及外部氧气(O2),则所得PCl5不会轻易分解和腐蚀硅,从而破坏了硅片的表面状态。
但是,如果存在多余的O2,PC15会进一步分解为P2O5,从而释放出氯(Cl2)。反应公式如下。
4PCl5 + 5O2 = 2P2O5 + 10Cl2
形成的P2O5与硅进一步反应形成SiO2和磷原子。通过氮气促进POCl3在磷扩散中的完全分解,并防止PCl5腐蚀硅片表面。氧气流量。
因此,由POCl 3分解产生的P 2 O 5沉积在硅晶片的表面上,并且P 2 O 5与硅反应以形成SiO 2和磷原子,从而在表面上形成磷光体和硅玻璃层。磷原子然后扩散到硅晶片中。